CVD系统

钻石薄膜具有许多优异的物性以及化性，其硬度（hardness）、莫尔密（molardensity）、热导速度、声速及弹性模数都是已知物质中最高的；其它优良的特性如负电子亲和力（negative electron affinity，NEA）、低摩擦系数、高折射率、低热膨胀系数、远红外光至X -光范围之光学穿透性、良好的电绝缘性、宽广之价带及高电子电洞移动速率等。 因此，可预见钻石于机械、医疗、光学及电子元件等材料工业上深具发展潜力，使得钻石镀膜在许多领域都会成为不可替代的极品。 譬如钻石薄膜是加工业上常用的磨料以及耐磨界面、半导体最好的晶片、通讯元件最高频的滤波器、飞行物最透光之雷达罩、电子业最有效的散热材料、显示器最密集之电子枪等等。

近期发展起来的薄膜制备方法。采高温热分解前驱气体，通过调节前驱体组分对比和温度，而获得大面积高质量沉积膜。系利用气态物质在固体表面进行反应生成固态沉积物的过程，是一种在高温下利用热能进行热分解和热化合的沉积技术。