真空镀膜系统
Hybrid 500-4S
产品特点
- 可设置4组Sputter，建构非平衡磁控溅射系统(UBM)，也可做为高阶装饰镀膜设备。
- 整合PVD(UBM)及PECVD系统技术，可以制备Me/DLC复合镀层。溅射系统可制备碳氮化膜具致密且及具韧性之柱状结构,作为PECVD DLC前之应力缓冲层，加强了附着性及耐冲击性，可制备1~5μm。
- 可应用于(非铁金属)冲棒、吹瓶模具、汽机车引擎内零件、耐冲击磨耗之零件。
- 可制备：TiN、CrN、AlCrN、ZrN、AlTiN、WCC、Me/DLC等