真空鍍膜系統
Hybrid 500-4S
產品特點
- 可設置4組Sputter，建構非平衡磁控濺射系統(UBM)，也可做為高階裝飾鍍膜設備。
- 整合PVD(UBM)及PECVD系統技術，可以製備Me/DLC複合鍍層。濺射系統可製備碳氮化膜具緻密且及具韌性之柱狀結構,作為PECVD DLC前之應力緩衝層，加強了附著性及耐衝擊性，可製備1~5μm。
- 可應用於(非鐵金屬)沖棒、吹瓶模具、汽機車引擎內零件、耐衝擊磨耗之零件。
- 可製備：TiN、CrN、AlCrN、ZrN、AlTiN、WCC、Me/DLC等