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馗鼎纳米科技布局先进封装与载板技术 引领混合键合与等离子技术发展

馗鼎纳米科技布局先进封装与载板技术 引领混合键合与等离子技术发展
经济日报
2024年10月23号
作者 经济日报 张杰
 

等离子设备领域的指标厂商之一的馗鼎纳米科技,积极布局先进封装与载板技术领域,并持续推动晶片连接技术的创新,随着封装技术从2.5D迈向3D,晶片堆叠连接成为全球半导体产业竞争的核心技术,其中「混合键合」(Hybrid Bonding)被视为未来晶片封装的关键,馗鼎纳米科技凭借其卓越的等离子制程与设备开发能力,抓住了这一技术趋势,为业界提供领先的解决方案。
 

随着5G、人工智能(AI)、高效能运算、物联网和新能源车等新兴市场的崛起,带动先进封装制程话题延烧,馗鼎纳米科技在2.5D/3D晶圆级封装(WLP IC) 、面板级扇出型封装(FOPLP)技术上也展现出强大的应用潜力。他们研发出的等离子去胶渣设备,能针对如LCP、PFA、PTFE、ABF等各式5G材料,进行高速且均匀的低温制程,并推出针对屏下指纹辨识的等离子极化设备,进一步满足市场需求。馗鼎纳米科技的去胶渣与蚀刻设备不仅在产业内深受青睐,还显著推动了公司营收的增长。
 

馗鼎纳米科技的技术优势不仅限于封装、ABF载板等领域,还涵盖了高纵横比、低温的制程,其全自动化批次与连续式等离子设备,在去胶渣(Desmear)、去残胶(Descum)、表面清洁与改质等制程上,提供多项等离子技术的解决方案,其中具备高蚀刻速率与均匀性等特性,不仅广受客户青睐、也持续取得终端的各项认证。此外,应用于非等向性蚀刻的等离子蚀刻机,也为精密封装技术提供强力的支持。馗鼎的连续式大气等离子处理设备,更成为提升膜层附着力的关键技术。
 

在应对混合键合技术需求的同时,馗鼎纳米科技亦针对先进封装的薄型化、高精细线路、雷钻孔洞的高纵横比等挑战,推出了针对软性印刷电路板(FPC)市场的卷对卷等离子去胶渣设备。该设备能处理最薄13μm至200μm的板材,并以每分钟5米的产速实现高速高效去胶渣。此外,这一技术的低温制程控制,温度低于80度,使其成为高产能及高效能运算封装技术的理想解决方案。
 

在绿能与永续发展方面,馗鼎纳米科技利用其等离子技术,推出了微波火炬等离子技术。这一技术无需电极,能处理多种类型的反应物,将PFC、N2O和VOCs等有害气体无害化处理。此外,它还可应用于碳氢化合物的转化与脱碳过程,生产无碳或低碳燃料,为绿能产业做出重要贡献。
 

随着封装技术不断演进,馗鼎纳米科技凭借其领先的等离子技术与设备研发实力,将持续引领产业变革,成为先进封装与载板技术领域的重要推手。
 
 

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