馗鼎纳米蚀刻设备 高速均匀
经济日报
2024年09月04号
作者 经济日报 张杰
2024年09月04号
作者 经济日报 张杰
国内常压、低压等离子设备大厂-馗鼎纳米科技，以优越等离子开发能力及镀膜技术基础下，致力研发大气等离子、抗污、抗菌、抗指纹镀膜技术及连续式卷绕传输制程（roll to roll, RTR），更在GOG、PEDOT、EMI coating、OLED、micro LED等新制程开发，均有所斩获。
馗鼎纳米所推出的低压等离子清洁设备（In-line Plasma Cleaning Equipment）。 馗鼎纳米／提供
在物联网及AI世代来临趋势下，晶片异质整合需求逐渐兴起，也带动先进封装等技术需求发展，馗鼎纳米科技在既有低压反应性离子蚀刻设备（Reactive ion etching, RIE）基础下，搭配专利的电极设计、气体流场均匀化的配置、基板载台的流体冷却系统，达到具有高蚀刻速率、高均匀性与低制程温度的特点，及高深宽比与非等向性蚀刻等的制程需求，适合用于半导体、封装与光电等相关领域，进行干式蚀刻（Etching）或灰化（Ashing）等制程。
另一款连续式的低压等离子清洁设备（In-line Plasma Cleaning Equipment），其特点为可全自动化生产，降低人工取放的动作，进而减少产品受到污染的风险。搭配专利的水冷式电极与气体流场设计，可提升产品的清洁效果与均匀性，因此广泛应用于半导体、封装与光电等相关领域进行清洁、活化、改质或粗糙化等制程，例如Chip、 die、lead frame等表面清洁与改质，或underfill、wire bonding、molding前的清洁处理等。
其中，该公司所生产的连续式（In-line）等离子清洗设备，于IC封装上，有广泛的应用，例如固晶、打线或封胶等制程前的表面清洁。且该设备具有快速、高均匀性等特性，加上可调整式多轨设计，搭配自动分料系统，可提供清洁效率与可靠度，同时也让生产规画更具灵活性。
由于馗鼎纳米科技具有与产业共同技术研发能力，不论在触控面板及软、硬板制程上，皆有长足开发能力，且布局多年纳米材料，于各个产业包含面板、半导体产业不断寻找出路及开发应用领域。
馗鼎纳米科技电话（06）232-3927。
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