UA-20935187-3
真空镀膜系统

PVD PVN500-C

PVD PVN500-C
PVD PVN500-C
产品特点
  • 纳米复合硬质涂层设备
  • 采阴极电弧镀膜技术,可安装4~8组6吋圆形阴极弧源
  • 圆形靶靶材利用率高
  • 真空零配件均采进口元件
  • 特殊几何形状档板(遮蔽靶源)
  • 系统采夹层式水路冷却;八边形不锈钢腔体
  • 搭载4 组Heater,可均匀升温至450℃
  • 搭载超高真空涡轮帮浦
  • 8轴3层公自转机构,产能大且膜层均匀
  • 置具台车方便Loading /Unloading生产,提供生产效率
  • 全自动化镀膜生产,可远端网路诊断及程式除错
  • 可镀膜种类:TiN、CrN、ZrN、TiSiN、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlTiCrN、AlTiSiN、TiX、G1…
相关解决方案
  • 铣削、车削、钻孔、攻牙之刀工具
  • 成型、冲压之模具

我们将使用cookie等资讯来优化您的体验,按下同意或继续浏览即表示您同意我们使用。欲了解详细内容,请详阅使用条款&免责声明

我同意