UA-20935187-3
真空鍍膜系統

PVD PVN500-C

PVD PVN500-C
PVD PVN500-C
產品特點
  • 奈米複合硬質塗層設備
  • 採陰極電弧鍍膜技術,可安裝4~8組6吋圓形陰極弧源
  • 圓形靶靶材利用率高
  • 真空零配件均採進口元件
  • 特殊幾何形狀檔板(遮蔽靶源)
  • 系統採夾層式水路冷卻;八邊形不銹鋼腔體
  • 搭載4 組Heater,可均勻升溫至450℃
  • 搭載超高真空渦輪幫浦
  • 8軸3層公自轉機構,產能大且膜層均勻
  • 置具台車方便Loading /Unloading生產,提供生產效率
  • 全自動化鍍膜生產,可遠端網路診斷及程式除錯
  • 可鍍膜種類:TiN、CrN、ZrN、TiSiN、TiAlN、AlTiN、
  • AlCrN、AlTiCrN、AlTiSiN、TiX、G1…
相關解決方案
  • 銑削、車削、鑽孔、攻牙之刀工具
  • 成型、沖壓之模具

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