低压等离子设备
等离子去光阻机PA01/PA03B
产品描述
快速去除晶圆上之残留光阻，达到晶圆表面洁净，蚀刻率同业最高
产品特点
- 处理均匀性佳
- 离子能量低、不损伤基板
- 没有电极及基板的污染
- 专利设计之特殊等离子电极
- 高密度等离子源
- 等离子效率高、清洁效率高
- 可控制低的离子能量
- 结合化学反应性及物理撞击性
- 处理速度快、清洁效率高、可靠度高
- 操作范围广
- 可使用多种制程气体
- 全自动且容易操作
- 设备稳定高，容易维护
- 可依客户需求作更改
相关解决方案
- 残余光阻去除
- PSS 来料清洁制程