低壓電漿設備
電漿去光阻機PA01/PA03B
產品說明
快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔淨，蝕刻率同業最高
產品特點
- 處理均勻性佳
- 離子能量低、不損傷基板
- 沒有電極及基板的汙染
- 專利設計之特殊電漿電極
- 高密度電漿源
- 電漿效率高、清潔效率高
- 可控制低的離子能量
- 結合化學反應性及物理撞擊性
- 處理速度快、清潔效率高、可靠度高
- 操作範圍廣
- 可使用多種製程氣體
- 設備穩定高，容易維護
- 可依客戶需求作更改
相關解決方案
- 殘餘光阻去除
- PSS 來料清潔製程
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