UA-20935187-3
真空鍍膜系統

電漿輔助化學氣相沉積系統

電漿輔助化學氣相沉積系統
電漿輔助化學氣相沉積系統
產品特點
  • 大面積均勻性
  • 高鍍膜速率
  • 低溫真空鍍膜
  • 可通入多組氣體
  • 易操作及易維護
  • 可以客戶做修改
  • 可搭配製電漿光譜分析儀做製程電漿監控及控制
相關解決方案
  • 半導體產業
  • 太陽能產業
  • LED產業
  • 光電產業
  • 鍍膜製程
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