UA-20935187-3
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真空鍍膜系統
PVD系統
真空鍍膜系統
高真空濺鍍系統 CF-SP01 (X、Z)
產品特點
高沉積速度,好的鍍膜均勻度
可安裝濺鍍槍3支
可通入多組氣體
可增加偏壓
容易操作和維護
全自動及機台穩定性高
可依照客戶需求
可搭配電漿光譜分析儀做電漿強度分析及控制
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