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    2019/07/31
    【產業新聞】台積電推出 N7P 和 N5P 增強版本製程,提供客戶效能或節能新選擇

TechNews
2019年07月31日
作者 Atkinson
 


晶圓代工龍頭台積電在先進製程上又有新的產品推出!根據國外科技媒體《anandtech》的報導,台積電目前已悄然推出 7 奈米深紫外 DUV(N7)和 5 奈米極紫外 EUV(N5)製程技術的性能增強版本。這兩種代號稱之為 N7P 和 N5P 的製程技術,其專門為需要 7 奈米設計運算更快,或消耗電量更少的客戶所設計。


報導指出,台積電的全新 N7P 製程技術採用與 N7 相同的設計規則,但是優化了前端(FEOL)和中端(MOL)架構,可在相同耗能下,將性能提升 7%,或者在相同的性能頻率下,降低 10% 的能耗。


而對於全新 N7P 製程技術,台積電最早是於 2019 年在日本舉辦的 VLSI 研討會上透露相關訊息。不過,對於這樣新的製程技術並沒有進行廣泛宣傳。目前,N7P 採用經過驗證的深紫外(DUV)光刻技術,與 N7 製程技術相比,該項技術沒有改變電晶體密度。而針對需要電晶體密度高出約 18% 至 20% 的台積電客戶,則預計建議使用 N7+ 或 N6 的製程技術。其中,N6 製程技術是透過極紫外(EUV)光刻技術進行晶圓的多層處理。


報導還進一步指出,除了 N7P 的新製程技術之外,台積電下一個具有顯著電晶體密度提升、並且改進功耗和性能的主要製程節點就是 5 奈米的 N5 製程技術上。台積電為此還提供了一個定名為 N5P 的性能增強版本。該技術採用 FEOL 和 MOL 優化功能,以便在相同功率下使晶片的運行速度提高 7%,或在相同頻率下將功耗降低 15%。
 


 

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