產品訊息
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  • 去光阻機
電漿去光阻機PA01/PA03B
產品功能
快速去除晶圓上之殘留光阻,達到晶圓表面潔淨,蝕刻率同業最高
產品特色
.處理均勻性佳
.離子能量低、不損傷基板
.沒有電極及基板的汙染
.專利設計之特殊電漿電極
.高密度電漿源
   *電漿效率高、清潔效率高
   *可控制低的離子能量
   *結合化學反應性及物理撞擊性
.處理速度快、清潔效率高、可靠度高
.操作範圍廣
.可使用多種製程氣體
.設備穩定高,容易維護
.可依客戶需求作更改
相關解決方案

.殘餘光阻去除
.PSS 來料清潔製程

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